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PLASMARED流程介紹

作者:1發(fā)布時(shí)間:2010-02-08
         PLASMAREDWIBERG的改良流程。第一座PLASMARED裝置于1981年在Horfors投入使用。該流程與WIBERG流程的區(qū)別主要在備氣部分應(yīng)用了等離子技術(shù),從而大大提高了裝置的生產(chǎn)能力。Horfors原來年產(chǎn)2.5tWIBERG裝置經(jīng)改裝后,生產(chǎn)能力提高至年產(chǎn)7t。流程不設(shè)還原氣脫硫爐,還原爐基本構(gòu)造和工作原理與原流程相同。

    等離子燒嘴裝設(shè)于造氣爐頂端。爐頂煤氣經(jīng)除塵處理后分出一小部分進(jìn)一步將CO2洗掉,然后在等離子燒嘴內(nèi)被加熱至40005000K的超高溫,形成等離子氣。循環(huán)爐頂煤氣的主要部分則作為氣化劑與造氣燃料一起在燒嘴前方噴人造氣爐。氣化劑、燃料與等離子氣流迅速混合,升溫,并轉(zhuǎn)化成還原氣。由于使用了等離子燒嘴,氣化爐對燃料的適應(yīng)能力很強(qiáng),可使用氣、液、固三種狀態(tài)的燃料。

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